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第085章 研發成功了
更新時間:2023-05-21 作者:秋聲雨霖
核動力都出來了，你說你本科生？ 第085章 研發成功了
南江戰略研究基地，光電研究實驗室。 此時，整個研究基地已經恢復了秩序。 低頻脈沖造成的影響確實挺大，不過持續時間也不過半個小時不到。 最主要是蘇川在如此短暫的時間中，就取得了研發成果。 這一點狠狠的擊中了眾人的心臟。 在整個刑天計劃中，只有蘇川這位總工程師是沒有任何的團隊以及助理的。 也就是這些科學研究成果都是蘇川一個人獨立完成。 他們這些帶著各自團隊進行研發的科學家，別說是獲得成果了。 直到現在，甚至連階段性的進展都沒有了。 這讓參與刑天計劃的這些專家以及科學家如何不敬佩蘇川？ 很顯然，方舟反應爐的誕生，狠狠的激勵了所有人。 如果蘇川認真的觀察系統面板上的研究進度。 那么他就能夠看到，機械動力裝甲的進度提升速度，比起往日至少增減了50！ 當然，哪怕是如此大幅度的提升，對于整個任務的進度而言，提升依舊緩慢。 光電實驗室中，此刻正在對于光刻機的研發，不斷的作出嘗試。 賀老帶著一副老花鏡，一直守在機器旁邊。 直到機器運作結束，立刻就有人將冷卻過后的芯片送到了賀志遠的手中。 作為光電研究負責人，光刻機的研發同樣是他盯著進行的。 “賀老，您看看！” 此刻的“芯片”還不能夠稱之為芯片，嚴格意義上來說，應該稱之為晶圓。 這是一種集成電路半導體的原材料！ 目前的晶圓也僅僅只是經過了光刻這一個步驟而已。 在此之后還需要進行蝕刻，添加化學離子混合劑，使得光刻、蝕刻后的每個晶體管都能夠充足的打開！ 經過這些流程過后，晶圓才能夠被稱之為芯片。 最后在經過測試以及調試，這些芯片就能夠正式的投入使用了。 賀志遠取下了眼睛，在晶圓上大致的看了一眼。 整體并沒有太多的雜質！ 接下來的觀察，還需要專門的設備進行查驗。 畢竟納米級別的光刻痕跡，別說是肉眼了。 哪怕是一般的顯微鏡都沒有辦法看到。 必須要納米級別的光學顯微鏡才能夠觀察到。 這種顯微鏡的顯示倍數至少也是1000倍規模。 只見賀老腳步匆匆，親自將晶圓放在專門的檢驗儀器上。 在一旁的電子屏幕上，很快就浮現出，經過放大后，晶圓表面的情況。 一個合格的光刻機，制造出來的晶圓，表面的情況應該與他們光刻模板幾乎一致。 同時至少也要保證90以上的成功率！ “賀老，這一批的晶圓效果怎么樣？” 在一旁的光刻操作人員詢問道。 實驗室中，所有人都在等待著賀老的結果。 賀志遠并沒有說話，用他手不斷拖動著鼠標，觀察著晶圓的情況。 畢竟是精確到納米級別的光刻機！ 這一項研究對于他們而言，顯然也充滿了十足的挑戰！ 很快，他就皺起眉毛來了。 在無數研究人員的注視下，賀老平靜搖了搖頭。 只見他轉過身來，念出了幾個坐標。 “你們注意一下142，64還有7，69這兩個坐標。” “這兩個坐標的附近，幾乎都有34納米的誤差！” 他從儀器中，取出了檢驗的晶圓平靜的說道。 “這么高的誤差，表示我們依舊無法生產10納米以下的芯片！” “距離目前世界上高精度芯片還有著相當的距離。” 圍繞在一旁的研究人員，以及專家無不底下頭來。 話雖然是這么說，可對比起他們之前的光刻機技術已經成長了許多了。 盡管成功率不算高，在此之前也已經制造出幾片5納米規格的芯片。 賀老平靜的說道。 “另外，我在這里宣布一個好消息，以及一個壞消息。” 賀志遠的聲音，讓眾人再度抬起頭來。 這種說話語氣，可不像是賀老啊。 不過，光電研究團隊，還是流露出好奇。 “賀老，您說！” 賀志遠點了點頭，平靜的說道。 “目前，其實我們的曝光系統其實已經基本沒有問題。“ “脈沖冷激光經過反射后，完全能夠用于光刻。” 他的語氣一頓，繼續說道。 “先說壞消息。” “現在的問題在于，光刻機的對準系統出現了問題。” “在晶圓光刻后，始終會出現一定的偏差！” 賀志遠突然流露出一絲微笑。 “至于好消息是，我已經想到了解決這個問題的方法！” “如果不出意外，目前我們所掌握的光刻技術，至少能夠制造出1納米級別的芯片！” 正當眾人準備鼓掌的時候。 賀志遠舉起了手制止了眾人。 “還沒成功呢！” “何況這點成就，與蘇總工的冷核聚變來說，根本不足為題。” “你們快去將光刻機的模具拿過來，還有光刻機對準系統的工作日志打印下來。” “我現在就要對于光刻機的對準系統，進行改良！” 在賀老的言語之下，實驗室里的眾人立刻忙碌了起來。 賀志遠看著頭頂明亮的燈泡，流露出笑容。 其實能夠在這么短的時間內，光刻機取得階段性的進展，還是取決于蘇川。 首先是，對于蘇川提出脈沖冷激光的想法，直接改變了他的思路。 這段時間，他們一直在研究脈沖冷激光。 在此之前，嘗試的極紫外光最多也就保證10納米到15納米精度的光刻。 脈沖冷激光則既然相反。 在理論上甚至能夠達到1納米級別，甚至更為精細的光刻！ 他們在短時間內，光刻機的核心技術，曝光系統突飛猛進。 反而是對準系統，開始拖后腿了。 不過在今天發生的低頻電磁脈沖意外后。 實驗室里不斷閃爍的燈光，給了賀老靈感。 沒錯，對準系統的解決方法很簡單。 只需要反復關閉啟動脈沖冷激光，以閃爍的方式進行光刻，在光刻中因為持續運作所造成的誤差，可以大幅度減少。 賀老看著幾名工作人員遞交過來的對準系統運行日志，以及晶圓模具笑了起來。 一切與他計算的一致！ 從另外的一個角度來說。 大夏的高精度光刻機，已經可以提前宣布，研發成功了！ 核動力都出來了，你說你本科生？ 第085章 研發成功了
南江戰略研究基地，光電研究實驗室。 此時，整個研究基地已經恢復了秩序。 低頻脈沖造成的影響確實挺大，不過持續時間也不過半個小時不到。 最主要是蘇川在如此短暫的時間中，就取得了研發成果。 這一點狠狠的擊中了眾人的心臟。 在整個刑天計劃中，只有蘇川這位總工程師是沒有任何的團隊以及助理的。 也就是這些科學研究成果都是蘇川一個人獨立完成。 他們這些帶著各自團隊進行研發的科學家，別說是獲得成果了。 直到現在，甚至連階段性的進展都沒有了。 這讓參與刑天計劃的這些專家以及科學家如何不敬佩蘇川？ 很顯然，方舟反應爐的誕生，狠狠的激勵了所有人。 如果蘇川認真的觀察系統面板上的研究進度。 那么他就能夠看到，機械動力裝甲的進度提升速度，比起往日至少增減了50！ 當然，哪怕是如此大幅度的提升，對于整個任務的進度而言，提升依舊緩慢。 光電實驗室中，此刻正在對于光刻機的研發，不斷的作出嘗試。 賀老帶著一副老花鏡，一直守在機器旁邊。 直到機器運作結束，立刻就有人將冷卻過后的芯片送到了賀志遠的手中。 作為光電研究負責人，光刻機的研發同樣是他盯著進行的。 “賀老，您看看！” 此刻的“芯片”還不能夠稱之為芯片，嚴格意義上來說，應該稱之為晶圓。 這是一種集成電路半導體的原材料！ 目前的晶圓也僅僅只是經過了光刻這一個步驟而已。 在此之后還需要進行蝕刻，添加化學離子混合劑，使得光刻、蝕刻后的每個晶體管都能夠充足的打開！ 經過這些流程過后，晶圓才能夠被稱之為芯片。 最后在經過測試以及調試，這些芯片就能夠正式的投入使用了。 賀志遠取下了眼睛，在晶圓上大致的看了一眼。 整體并沒有太多的雜質！ 接下來的觀察，還需要專門的設備進行查驗。 畢竟納米級別的光刻痕跡，別說是肉眼了。 哪怕是一般的顯微鏡都沒有辦法看到。 必須要納米級別的光學顯微鏡才能夠觀察到。 這種顯微鏡的顯示倍數至少也是1000倍規模。 只見賀老腳步匆匆，親自將晶圓放在專門的檢驗儀器上。 在一旁的電子屏幕上，很快就浮現出，經過放大后，晶圓表面的情況。 一個合格的光刻機，制造出來的晶圓，表面的情況應該與他們光刻模板幾乎一致。 同時至少也要保證90以上的成功率！ “賀老，這一批的晶圓效果怎么樣？” 在一旁的光刻操作人員詢問道。 實驗室中，所有人都在等待著賀老的結果。 賀志遠并沒有說話，用他手不斷拖動著鼠標，觀察著晶圓的情況。 畢竟是精確到納米級別的光刻機！ 這一項研究對于他們而言，顯然也充滿了十足的挑戰！ 很快，他就皺起眉毛來了。 在無數研究人員的注視下，賀老平靜搖了搖頭。 只見他轉過身來，念出了幾個坐標。 “你們注意一下142，64還有7，69這兩個坐標。” “這兩個坐標的附近，幾乎都有34納米的誤差！” 他從儀器中，取出了檢驗的晶圓平靜的說道。 “這么高的誤差，表示我們依舊無法生產10納米以下的芯片！” “距離目前世界上高精度芯片還有著相當的距離。” 圍繞在一旁的研究人員，以及專家無不底下頭來。 話雖然是這么說，可對比起他們之前的光刻機技術已經成長了許多了。 盡管成功率不算高，在此之前也已經制造出幾片5納米規格的芯片。 賀老平靜的說道。 “另外，我在這里宣布一個好消息，以及一個壞消息。” 賀志遠的聲音，讓眾人再度抬起頭來。 這種說話語氣，可不像是賀老啊。 不過，光電研究團隊，還是流露出好奇。 “賀老，您說！” 賀志遠點了點頭，平靜的說道。 “目前，其實我們的曝光系統其實已經基本沒有問題。“ “脈沖冷激光經過反射后，完全能夠用于光刻。” 他的語氣一頓，繼續說道。 “先說壞消息。” “現在的問題在于，光刻機的對準系統出現了問題。” “在晶圓光刻后，始終會出現一定的偏差！” 賀志遠突然流露出一絲微笑。 “至于好消息是，我已經想到了解決這個問題的方法！” “如果不出意外，目前我們所掌握的光刻技術，至少能夠制造出1納米級別的芯片！” 正當眾人準備鼓掌的時候。 賀志遠舉起了手制止了眾人。 “還沒成功呢！” “何況這點成就，與蘇總工的冷核聚變來說，根本不足為題。” “你們快去將光刻機的模具拿過來，還有光刻機對準系統的工作日志打印下來。” “我現在就要對于光刻機的對準系統，進行改良！” 在賀老的言語之下，實驗室里的眾人立刻忙碌了起來。 賀志遠看著頭頂明亮的燈泡，流露出笑容。 其實能夠在這么短的時間內，光刻機取得階段性的進展，還是取決于蘇川。 首先是，對于蘇川提出脈沖冷激光的想法，直接改變了他的思路。 這段時間，他們一直在研究脈沖冷激光。 在此之前，嘗試的極紫外光最多也就保證10納米到15納米精度的光刻。 脈沖冷激光則既然相反。 在理論上甚至能夠達到1納米級別，甚至更為精細的光刻！ 他們在短時間內，光刻機的核心技術，曝光系統突飛猛進。 反而是對準系統，開始拖后腿了。 不過在今天發生的低頻電磁脈沖意外后。 實驗室里不斷閃爍的燈光，給了賀老靈感。 沒錯，對準系統的解決方法很簡單。 只需要反復關閉啟動脈沖冷激光，以閃爍的方式進行光刻，在光刻中因為持續運作所造成的誤差，可以大幅度減少。 賀老看著幾名工作人員遞交過來的對準系統運行日志，以及晶圓模具笑了起來。 一切與他計算的一致！ 從另外的一個角度來說。 大夏的高精度光刻機，已經可以提前宣布，研發成功了！ 核動力都出來了，你說你本科生？ 第085章 研發成功了
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