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第76章 就你了
更新時間:2021-09-27 作者:是只菜狗
國產之光：從賣手機開始 第76章 就你了
辦公室只剩羅離一人。 他眉頭緊鎖，目光凝重的盯著顯示屏，不斷有業內最新科技資訊從其上劃過。 羅離找遍了所有關于芯片的科學期刊，也沒有發現任何機會。 首先，國內其實并不缺制造通用芯片的能力， 缺的只是制造高精度、低制程的尖端芯片的工藝和設備！ 在芯片設計和制造中，納米表示的是芯片中晶體管與晶體管之間的距離，在體積大小相同的情況下，7nm工藝的芯片，容納的晶體管數量幾乎是14nm的2倍多！ 晶體管的數量直接決定了處理器性能的強弱，晶體管越多，處理器解析的能力也就越強。 國內目前完全自主研造的芯片，最多也只能達到90nm級別，單位容納晶體管數量為2億多，遠遠低于平均水平。 核桃mini采用的是高通660芯片，在制程上為14nm，單位晶體管數量便已經達到37億多！ 華火前一代性能旗艦——青龍970采用的是10nm工藝，單位晶體管數量為55億……而青龍980更是采用7nm工藝，晶體管數更是達到了恐怖的70億！ 在運算能力上，青龍970只支持29.9GB傳速，青龍980最高可以支持到34.1GB，這還只是細枝末節，相比之下，兩者在綜合性能跑分上的差距還要更加顯著。 精度越高的芯片，體積就會更小，相應的功耗和發熱也會更小。 低精度的芯片可以滿足重工業生產需要，但絕對無法滿足手機工藝！ 手機不同于汽車，內部的空間就那么點，散熱首當其沖就是第一大難題，制程越小，所占空間也就越小，散熱就會更加優秀。 高精度芯片相比于低精度芯片，性能上的優勢不僅來自于工藝制程，還來源于很多方面，比如芯片架構、芯片緩存、芯片帶寬、GPU性能和基帶等等。 其真實差距，堪稱云泥之別。 如果釘子科技找不到解決的方法，將被迫只能采用國產90nm級芯片，這對釘子來說絕對是一個巨大的打擊。 要知道高通835和青龍980一樣都是10nm芯片，在在晶體管數量上是國產90nm芯片的三十倍！性能更是差距百倍千倍！ 最重要的是，黑科技手機系統對處理器芯片制程有嚴格的要求，一代系統只能兼容14nm以下，二代系統只能兼容10nm以下。 換成90nm，就意味著瓜子手機將徹底舍棄黑科技手機系統，同時被舍棄的還有40％性能的提升、30％功耗的降低、云服務功能、語音助手、各種超級算法和超級優化…… 這特么堪稱滅頂之災啊！ 沒有黑科技手機系統加持，瓜子手機連八十線廠商都不如。 尼瑪，資本亡我之心不死！ “……有沒有什么其他辦法？” 問出這個問題，羅離也知道不會有答案。 根本不可能。 當資本企業聯盟決定實行芯片壟斷的那一刻起，就已經堵死了所有生路，除非你能自己搞出來。 羅離第一反應就是查閱系統。 打開兌換列表，在一長串密密麻麻的兌換商品種，羅離找到了芯片制造相關的科技。 排除“虛空系列”、“反物質”、“負相粒子光能”這種一聽就買不起的東西，羅離直接將列表拉到最下來。 然后，他就看到了自己收藏夾中躺了兩個多月的3nmEUV光刻機—— 以及后面長達10厘米的“0”…… 羅離：“……” 3nmEUV光刻機，太特么貴了！ 貴到價格只能用“厘米”來形容。 就尼瑪離譜！ 羅離果斷放棄了，這東西絕對不是現階段可以買得起的！ 然后他將目光鎖定到5nm級別……這次是8厘米。 淦，放棄放棄！ 然后是7nm…… 14nm…… …… 全部看完，羅離徹底無奈了。 以他目前的系統積分，居然只能買得起130nm級別的光刻機！還特么是DUV光源！！ DUV光刻機和EUV光刻機能比？ 寒磣誰呢？ DUV光刻機大多采用的是波長為193nm級別的氟化氬準分子激光，或者波長為248nm的氟化氪準分子激光，單次曝光的極限制程在128nm到90nm之間，多次曝光雖然可以將精度提升至最高28nm，但卻是以犧牲良品率為代價！ 幾乎每重復一次曝光，損壞的幾率就增加一倍……靠DUV光刻機想要造出28nm制程芯片，至少需要曝光5次以上！ 先不說你連續曝光五次最終能成功幾個，就算成功了，28nm也遠遠解決不了釘子現在的危機。 更別提暴增的材料成本了。 光刻工藝的核心資源是一種叫做光刻膠的化學合成劑，這東西在國內也無法制造。 在層層壟斷下，光刻膠的進口量就那么多，其他廠商會允許你這么浪費？ 在目前，DUV光刻機受限于精度制程，已經無法滿足后來14nm、7nm、5nm等更高制程的需求了，這時候就需要依靠EUV光刻機。 EUV光刻機采用的是一種13.5nm的極紫外光，可以在大約200平方毫米的面積下集成超過105億顆晶體管。 用EUV光刻機制造7nm級芯片，只需要曝光一次。 在現階段， 國產芯片僅能滿足日常生產生活的基礎要求，高端光刻機無法進入國內，高級芯片生產的困難還是很嚴峻。 釘子如果想真正解決芯片的問題，第一件需要解決的就是光刻機精度。 “既然不能制造光刻機，那能不能對現有的光刻機制程進行改進？” 羅離忽然有了一個大膽的想法。 眾所周知，光刻機的曝光分辨率與波長直接相關，隨著科技的進步，極限光源的波長也在不斷縮小，從DUV光源的248nm級數不斷突破，一直來到現在的13.5nm極紫光束，進步不可謂不大。 這也是現在芯片技術能突破個位數的根本原因。 既然無法從其他資本手中買到高級光刻機，也無法憑空從系統中兌換，那有沒有可能通過系統的黑科技技術，將國內現有的光刻機工藝水平提升到世界水平…… 思緒至此，羅離的心跳開始加快。 對啊， 改裝升級的成本可比從無到有低多了，而且現在國內的芯片工藝也不算太拉胯，要是…… 羅離沒有絲毫猶豫，馬上打開系統兌換窗口，然后在搜索框中輸入文字。 再度摒棄一系列花里胡哨的科幻風選項，羅離一口氣直接將列表拖拽到最底下。 一行不起眼的小字出現在眼前。 “穩態微距束”技術：20萬積分； 光速瀏覽完介紹，羅離瞪大了眼睛。 就你了！ 咬咬牙，直接選擇兌換！！ “唰！” 強光一閃而過。國產之光：從賣手機開始 第76章 就你了
辦公室只剩羅離一人。 他眉頭緊鎖，目光凝重的盯著顯示屏，不斷有業內最新科技資訊從其上劃過。 羅離找遍了所有關于芯片的科學期刊，也沒有發現任何機會。 首先，國內其實并不缺制造通用芯片的能力， 缺的只是制造高精度、低制程的尖端芯片的工藝和設備！ 在芯片設計和制造中，納米表示的是芯片中晶體管與晶體管之間的距離，在體積大小相同的情況下，7nm工藝的芯片，容納的晶體管數量幾乎是14nm的2倍多！ 晶體管的數量直接決定了處理器性能的強弱，晶體管越多，處理器解析的能力也就越強。 國內目前完全自主研造的芯片，最多也只能達到90nm級別，單位容納晶體管數量為2億多，遠遠低于平均水平。 核桃mini采用的是高通660芯片，在制程上為14nm，單位晶體管數量便已經達到37億多！ 華火前一代性能旗艦——青龍970采用的是10nm工藝，單位晶體管數量為55億……而青龍980更是采用7nm工藝，晶體管數更是達到了恐怖的70億！ 在運算能力上，青龍970只支持29.9GB傳速，青龍980最高可以支持到34.1GB，這還只是細枝末節，相比之下，兩者在綜合性能跑分上的差距還要更加顯著。 精度越高的芯片，體積就會更小，相應的功耗和發熱也會更小。 低精度的芯片可以滿足重工業生產需要，但絕對無法滿足手機工藝！ 手機不同于汽車，內部的空間就那么點，散熱首當其沖就是第一大難題，制程越小，所占空間也就越小，散熱就會更加優秀。 高精度芯片相比于低精度芯片，性能上的優勢不僅來自于工藝制程，還來源于很多方面，比如芯片架構、芯片緩存、芯片帶寬、GPU性能和基帶等等。 其真實差距，堪稱云泥之別。 如果釘子科技找不到解決的方法，將被迫只能采用國產90nm級芯片，這對釘子來說絕對是一個巨大的打擊。 要知道高通835和青龍980一樣都是10nm芯片，在在晶體管數量上是國產90nm芯片的三十倍！性能更是差距百倍千倍！ 最重要的是，黑科技手機系統對處理器芯片制程有嚴格的要求，一代系統只能兼容14nm以下，二代系統只能兼容10nm以下。 換成90nm，就意味著瓜子手機將徹底舍棄黑科技手機系統，同時被舍棄的還有40％性能的提升、30％功耗的降低、云服務功能、語音助手、各種超級算法和超級優化…… 這特么堪稱滅頂之災啊！ 沒有黑科技手機系統加持，瓜子手機連八十線廠商都不如。 尼瑪，資本亡我之心不死！ “……有沒有什么其他辦法？” 問出這個問題，羅離也知道不會有答案。 根本不可能。 當資本企業聯盟決定實行芯片壟斷的那一刻起，就已經堵死了所有生路，除非你能自己搞出來。 羅離第一反應就是查閱系統。 打開兌換列表，在一長串密密麻麻的兌換商品種，羅離找到了芯片制造相關的科技。 排除“虛空系列”、“反物質”、“負相粒子光能”這種一聽就買不起的東西，羅離直接將列表拉到最下來。 然后，他就看到了自己收藏夾中躺了兩個多月的3nmEUV光刻機—— 以及后面長達10厘米的“0”…… 羅離：“……” 3nmEUV光刻機，太特么貴了！ 貴到價格只能用“厘米”來形容。 就尼瑪離譜！ 羅離果斷放棄了，這東西絕對不是現階段可以買得起的！ 然后他將目光鎖定到5nm級別……這次是8厘米。 淦，放棄放棄！ 然后是7nm…… 14nm…… …… 全部看完，羅離徹底無奈了。 以他目前的系統積分，居然只能買得起130nm級別的光刻機！還特么是DUV光源！！ DUV光刻機和EUV光刻機能比？ 寒磣誰呢？ DUV光刻機大多采用的是波長為193nm級別的氟化氬準分子激光，或者波長為248nm的氟化氪準分子激光，單次曝光的極限制程在128nm到90nm之間，多次曝光雖然可以將精度提升至最高28nm，但卻是以犧牲良品率為代價！ 幾乎每重復一次曝光，損壞的幾率就增加一倍……靠DUV光刻機想要造出28nm制程芯片，至少需要曝光5次以上！ 先不說你連續曝光五次最終能成功幾個，就算成功了，28nm也遠遠解決不了釘子現在的危機。 更別提暴增的材料成本了。 光刻工藝的核心資源是一種叫做光刻膠的化學合成劑，這東西在國內也無法制造。 在層層壟斷下，光刻膠的進口量就那么多，其他廠商會允許你這么浪費？ 在目前，DUV光刻機受限于精度制程，已經無法滿足后來14nm、7nm、5nm等更高制程的需求了，這時候就需要依靠EUV光刻機。 EUV光刻機采用的是一種13.5nm的極紫外光，可以在大約200平方毫米的面積下集成超過105億顆晶體管。 用EUV光刻機制造7nm級芯片，只需要曝光一次。 在現階段， 國產芯片僅能滿足日常生產生活的基礎要求，高端光刻機無法進入國內，高級芯片生產的困難還是很嚴峻。 釘子如果想真正解決芯片的問題，第一件需要解決的就是光刻機精度。 “既然不能制造光刻機，那能不能對現有的光刻機制程進行改進？” 羅離忽然有了一個大膽的想法。 眾所周知，光刻機的曝光分辨率與波長直接相關，隨著科技的進步，極限光源的波長也在不斷縮小，從DUV光源的248nm級數不斷突破，一直來到現在的13.5nm極紫光束，進步不可謂不大。 這也是現在芯片技術能突破個位數的根本原因。 既然無法從其他資本手中買到高級光刻機，也無法憑空從系統中兌換，那有沒有可能通過系統的黑科技技術，將國內現有的光刻機工藝水平提升到世界水平…… 思緒至此，羅離的心跳開始加快。 對啊， 改裝升級的成本可比從無到有低多了，而且現在國內的芯片工藝也不算太拉胯，要是…… 羅離沒有絲毫猶豫，馬上打開系統兌換窗口，然后在搜索框中輸入文字。 再度摒棄一系列花里胡哨的科幻風選項，羅離一口氣直接將列表拖拽到最底下。 一行不起眼的小字出現在眼前。 “穩態微距束”技術：20萬積分； 光速瀏覽完介紹，羅離瞪大了眼睛。 就你了！ 咬咬牙，直接選擇兌換！！ “唰！” 強光一閃而過。國產之光：從賣手機開始 第76章 就你了
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